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EBL传感器
是电子束微影中常用的正阻剂,是由单体酸甲酯(methyl methacrylate, MMA)经聚合反应而成。用在电子阻剂的PMMA 通常分子量在数万至数十万之间,受电子束照射的区域PMMA 分子量将变成数百至数千,在显影时低分子量与高分子量PMMA 溶解度的对比非常大。
负阻剂方面,多半由聚合物的单体构成。在电子束曝照的过程中会产生聚合反应形成长链或交叉链结(crosslinking)聚合物,WG1034121135 液位传感器信誉,所产生的聚合物较不易被显影液溶解因而在显影后会留在基板表面形成微影图案。目前常用的负阻剂为化学倍增式阻剂(chemically amplified resist),经电子束曝照后产生氢离子催化链结反应,具有高解析度、高感度,且抗蚀刻性高。

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